隨著特征尺寸的不斷縮小，以及多次自對準圖形的廣泛采用，對于薄膜制備所需要考量的均勻性、一致性、密度和厚度等需求變得越來越嚴苛。
在Low-k材料被廣泛應(yīng)用后，TiN Hardmask薄膜因可以幫助在via/trench刻蝕后獲得更佳的形貌，已成為不可或缺的關(guān)鍵工藝。根據(jù)這一需要，北方華創(chuàng)的exiTin H430 PVD系統(tǒng)應(yīng)運而生。
由北方華創(chuàng)自主研發(fā)，應(yīng)用于28納米工藝的exiTin H430 TiN PVD沉積系統(tǒng)具有獨特的工藝控制技術(shù)，設(shè)備兼容性強，工藝穩(wěn)定，顆粒表現(xiàn)佳，靈活的設(shè)計可以為客戶工藝集成提供更大空間，同時也為客戶降低了生產(chǎn)成本。
北方華創(chuàng)的exiTin H430 PVD系統(tǒng)從2012年開始進入客戶端，其TiN膜厚均勻性及電阻均勻性等關(guān)鍵技術(shù)指標優(yōu)于國際主流設(shè)備，實現(xiàn)了我國高端集成電路裝備的技術(shù)跨越。2015年，該設(shè)備作為國產(chǎn)設(shè)備僅有的代表通過國際知名集成電路設(shè)計企業(yè)的產(chǎn)品驗證，并成為在28納米生產(chǎn)線首臺基準國產(chǎn)高端裝備（Baseline）。近期該設(shè)備又獲得知名芯片制造企業(yè)頒發(fā)的穩(wěn)定量產(chǎn)100萬片紀念獎杯，這是國產(chǎn)PVD設(shè)備市場化進程中的又一個重要的里程碑。
